Purcell マイクロ拡散炉 LPCVD 再生済み Si3N4 プロセス適用シリコンウェーハサイズ 4~6 インチ
分類: 機械工業
商品住所: 青島パーセルマイクロエレクトロニクス株式会社
会社名: 青島パーセルマイクロエレクトロニクス株式会社
Purcell マイクロ拡散炉 LPCVD 再生済み Si3N4 プロセス適用シリコンウェーハサイズ 4~6 インチ 製品詳細
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引用符の要求Purcell マイクロ拡散炉 LPCVD 再生済み Si3N4 プロセス適用シリコンウェーハサイズ 4~6 インチ