パーセルマイクロ拡散炉 LPCVD 改修 D-POLY プロセス動作温度 300〜900℃
分類: 機械工業
商品住所: 青島パーセルマイクロエレクトロニクス株式会社
会社名: 青島パーセルマイクロエレクトロニクス株式会社
パーセルマイクロ拡散炉 LPCVD 改修 D-POLY プロセス動作温度 300〜900℃ 製品詳細
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引用符の要求パーセルマイクロ拡散炉 LPCVD 改修 D-POLY プロセス動作温度 300〜900℃